| Форма представления | Статьи в российских журналах и сборниках |
| Год публикации | 2016 |
| Язык | русский |
|
Воробьев Вячеслав Валерьевич, автор
Осин Юрий Николаевич, автор
Степанов Андрей Львович, автор
|
|
Базаров В. В., автор
Валеев В Ф, автор
Нуждин Владимир Иванович, автор
|
|
Воробьев Вячеслав Валерьевич, автор
|
| Библиографическое описание на языке оригинала |
Базаров В. В., Нуждин В. И., Валеев В. Ф., Воробьев В. В., Осин Ю. Н., Степанов А. Л., Анализ поверхности кремния, имплантированного ионами серебра, методами спектральной эллипсометрии и дифракции отраженных электронов // Журнал прикладной спектроскопии, 2016, Т. 82, № 1, С. 55-59. |
| Аннотация |
Журнал прикладной спектроскопии |
| Ключевые слова |
пористый кремний, ионная имплантация, спектральная эллипсометрия, дифракция отраженных электронов. |
| Название журнала |
Журнал прикладной спектроскопии
|
| Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на эту карточку |
https://repository.kpfu.ru/?p_id=127126 |
| Файлы ресурса | |
|
|
Полная запись метаданных  |
| Поле DC |
Значение |
Язык |
| dc.contributor.author |
Воробьев Вячеслав Валерьевич |
ru_RU |
| dc.contributor.author |
Осин Юрий Николаевич |
ru_RU |
| dc.contributor.author |
Степанов Андрей Львович |
ru_RU |
| dc.contributor.author |
Базаров В. В. |
ru_RU |
| dc.contributor.author |
Валеев В Ф |
ru_RU |
| dc.contributor.author |
Нуждин Владимир Иванович |
ru_RU |
| dc.contributor.author |
Воробьев Вячеслав Валерьевич |
ru_RU |
| dc.date.accessioned |
2016-01-01T00:00:00Z |
ru_RU |
| dc.date.available |
2016-01-01T00:00:00Z |
ru_RU |
| dc.date.issued |
2016 |
ru_RU |
| dc.identifier.citation |
Базаров В. В., Нуждин В. И., Валеев В. Ф., Воробьев В. В., Осин Ю. Н., Степанов А. Л., Анализ поверхности кремния, имплантированного ионами серебра, методами спектральной эллипсометрии и дифракции отраженных электронов // Журнал прикладной спектроскопии, 2016, Т. 82, № 1, С. 55-59. |
ru_RU |
| dc.identifier.uri |
https://repository.kpfu.ru/?p_id=127126 |
ru_RU |
| dc.description.abstract |
Журнал прикладной спектроскопии |
ru_RU |
| dc.description.abstract |
Журнал прикладной спектроскопии |
ru_RU |
| dc.description.abstract |
Представлены результаты исследований методами спектральной эллипсометрии и дифракции отраженных электронов аморфного кремния (а-Si), сформированного на поверхности монокристаллических подложек (c-Si) низкоэнергетической низкодозовой имплантацией ионов серебра. Имплантация проводилась с энергией 30 кэВ при постоянной плотности тока в ионном пучке 2 мкА/см2 в интервале доз 6.24 1012?1.25 1016 ион/см2 при комнатной температуре облучаемых подложек.
Для доз имплантации 6.24 1013 и 1.87 1014 ион/см2 проведено облучение с плотностью тока 0.1?5 мкA/cм2. Показано, что спектральная эллипсометрия является точным и надежным методом контроля технологического процесса низкодозовой ионной имплантации. |
ru_RU |
| dc.language.iso |
ru |
ru_RU |
| dc.subject |
пористый кремний |
ru_RU |
| dc.subject |
ионная имплантация |
ru_RU |
| dc.subject |
спектральная эллипсометрия |
ru_RU |
| dc.subject |
дифракция отраженных электронов. |
ru_RU |
| dc.title |
Анализ поверхности кремния, имплантированного ионами серебра, методами спектральной эллипсометрии и дифракции отраженных электронов |
ru_RU |
| dc.type |
Статьи в российских журналах и сборниках |
ru_RU |
|
EN 
中文 
ES 
Карта сайта
