Форма представления | Статьи в зарубежных журналах и сборниках |
Год публикации | 2021 |
Язык | английский |
|
Файрушин Ильназ Изаилович, автор
Шемахин Александр Юрьевич, автор
|
Библиографическое описание на языке оригинала |
Fairushin I.I, Shemakhin A.Y, Khabir?yanova A.A., Molecular Dynamics Simulation of Copper Nanofilm Self-Assembly on Silicon Substrate under Gas-Discharge Plasma Conditions//High Energy Chemistry. - 2021. - Vol.55, Is.5. - P.399-401. |
Ключевые слова |
gas discharge, molecular dynamics, sputtering, copper nanofilm, self-assembly |
Название журнала |
HIGH ENERGY CHEMISTRY
|
URL |
https://www.scopus.com/inward/record.uri?eid=2-s2.0-85115357777&doi=10.1134%2fS0018143921050039&partnerID=40&md5=d2ffb8a499711856c9978d981af0e6eb |
Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на эту карточку |
https://repository.kpfu.ru/?p_id=258428 |
Полная запись метаданных |
Поле DC |
Значение |
Язык |
dc.contributor.author |
Файрушин Ильназ Изаилович |
ru_RU |
dc.contributor.author |
Шемахин Александр Юрьевич |
ru_RU |
dc.date.accessioned |
2021-01-01T00:00:00Z |
ru_RU |
dc.date.available |
2021-01-01T00:00:00Z |
ru_RU |
dc.date.issued |
2021 |
ru_RU |
dc.identifier.citation |
Fairushin I.I, Shemakhin A.Y, Khabir?yanova A.A., Molecular Dynamics Simulation of Copper Nanofilm Self-Assembly on Silicon Substrate under Gas-Discharge Plasma Conditions//High Energy Chemistry. - 2021. - Vol.55, Is.5. - P.399-401. |
ru_RU |
dc.identifier.uri |
https://repository.kpfu.ru/?p_id=258428 |
ru_RU |
dc.description.abstract |
HIGH ENERGY CHEMISTRY |
ru_RU |
dc.language.iso |
ru |
ru_RU |
dc.subject |
gas discharge |
ru_RU |
dc.subject |
molecular dynamics |
ru_RU |
dc.subject |
sputtering |
ru_RU |
dc.subject |
copper nanofilm |
ru_RU |
dc.subject |
self-assembly |
ru_RU |
dc.title |
Molecular Dynamics Simulation of Copper Nanofilm Self-Assembly on Silicon Substrate under Gas-Discharge Plasma Conditions |
ru_RU |
dc.type |
Статьи в зарубежных журналах и сборниках |
ru_RU |
|