| Форма представления | Статьи в зарубежных журналах и сборниках |
| Год публикации | 2023 |
| Язык | английский |
|
Файрушин Ильназ Изаилович, автор
Шемахин Александр Юрьевич, автор
|
| Библиографическое описание на языке оригинала |
Fairusin I.I. Simulation of Copper Nanostructure Formation on Silicon Dioxide Microsubstrate Surface / I.I. Fairushin, A.Yu. Shemakhin // High energy chemistry. - 2023. Vol. 57. Suppl. 1, pp. S41–S44. |
| Ключевые слова |
gas discharge, molecular dynamics, deposition, copper nanostructure, silicon dioxide |
| Название журнала |
HIGH ENERGY CHEMISTRY
|
| Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на эту карточку |
https://repository.kpfu.ru/?p_id=282693 |
Полная запись метаданных  |
| Поле DC |
Значение |
Язык |
| dc.contributor.author |
Файрушин Ильназ Изаилович |
ru_RU |
| dc.contributor.author |
Шемахин Александр Юрьевич |
ru_RU |
| dc.date.accessioned |
2023-01-01T00:00:00Z |
ru_RU |
| dc.date.available |
2023-01-01T00:00:00Z |
ru_RU |
| dc.date.issued |
2023 |
ru_RU |
| dc.identifier.citation |
Fairusin I.I. Simulation of Copper Nanostructure Formation on Silicon Dioxide Microsubstrate Surface / I.I. Fairushin, A.Yu. Shemakhin // High energy chemistry. - 2023. Vol. 57. Suppl. 1, pp. S41–S44. |
ru_RU |
| dc.identifier.uri |
https://repository.kpfu.ru/?p_id=282693 |
ru_RU |
| dc.description.abstract |
HIGH ENERGY CHEMISTRY |
ru_RU |
| dc.language.iso |
ru |
ru_RU |
| dc.subject |
gas discharge |
ru_RU |
| dc.subject |
molecular dynamics |
ru_RU |
| dc.subject |
deposition |
ru_RU |
| dc.subject |
copper nanostructure |
ru_RU |
| dc.subject |
silicon dioxide |
ru_RU |
| dc.title |
Simulation of Copper Nanostructure Formation on Silicon Dioxide Microsubstrate Surface |
ru_RU |
| dc.type |
Статьи в зарубежных журналах и сборниках |
ru_RU |
|
EN 
中文 
ES 
Карта сайта
