КФУ. Карточка публикации. Особенности формирования слоя положительного заряда при модификации изделий в струе высокочастотного ёмкостного разряда в условиях динамического вакуума

RUS

- EN
- 中文
- ES

ОСОБЕННОСТИ ФОРМИРОВАНИЯ СЛОЯ ПОЛОЖИТЕЛЬНОГО ЗАРЯДА ПРИ МОДИФИКАЦИИ ИЗДЕЛИЙ В СТРУЕ ВЫСОКОЧАСТОТНОГО ЁМКОСТНОГО РАЗРЯДА В УСЛОВИЯХ ДИНАМИЧЕСКОГО ВАКУУМА

Форма представления

Статьи в российских журналах и сборниках

Год публикации

2024

Язык

русский

Авторы, сотрудники КФУ

Желтухин Виктор Семенович, автор

Другие авторы

Абдуллин Ильдар Шаукатович, автор

Сагитова Фарида Равилевна, автор

Шаехов Марс Фаридович, автор

Авторы, аспиранты КФУ

Некрасов Игорь Константинович, автор

Библиографическое описание на языке оригинала

Абдуллин И. Ш. Особенности формирования слоя положительного заряда при модификации изделий в струе высокочастотного ёмкостного разряда в условиях динамического вакуума / И. Ш. Абдуллин, В. С. Желтухин, И.К. Некрасов [и др.] // Физика и химия обработки материалов. - 2024. - № 1. - С. 30-40.

Аннотация

В работе представлено физическое описание формирования слоя положительного заряда вокруг объекта исследования при обработке в высокочастотном ёмкостном (ВЧЕ) разряде, вследствие чего возникает направленный поток низкоэнергетических ионов, бомбардирующих поверхность модифицируемого изделия. С помощью голографических измерений продемонстрировано наличие слоя, отличающегося от плазмы ВЧЕ разряда, вокруг обрабатываемого тела. Оптимальным методом измерений был признан метод перезаписи голограмм, суть которого состояла в последовательной регистрации голограмм с использованием восстановленных волн с предыдущей голограммы, благодаря чему коэффициент чувствительности измерений увеличивается. Представлено теоретическое обоснование голографических измерений, а также исследовано влияние потенциалов плазмы, энергий ионов и плотности ионного тока на поверхность обрабатываемого тела. Детально описаны методология экспериментов и измерительное оборудование.

Ключевые слова

слой положительного заряда (СПЗ), поток низкоэнергетических ионов, высокочастотный ёмкостной (ВЧЕ) разряд, плазменная обработка

Название журнала

Физика и химия обработки материалов

URL

https://old.imet.ac.ru/fxom/2024-1.htm

Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на эту карточку

https://repository.kpfu.ru/?p_id=304995

Полная запись метаданных

Поле DC	Значение	Язык
dc.contributor.author	Желтухин Виктор Семенович	ru_RU
dc.contributor.author	Абдуллин Ильдар Шаукатович	ru_RU
dc.contributor.author	Сагитова Фарида Равилевна	ru_RU
dc.contributor.author	Шаехов Марс Фаридович	ru_RU
dc.contributor.author	Некрасов Игорь Константинович	ru_RU
dc.date.accessioned	2024-01-01T00:00:00Z	ru_RU
dc.date.available	2024-01-01T00:00:00Z	ru_RU
dc.date.issued	2024	ru_RU
dc.identifier.citation	Абдуллин И. Ш. Особенности формирования слоя положительного заряда при модификации изделий в струе высокочастотного ёмкостного разряда в условиях динамического вакуума / И. Ш. Абдуллин, В. С. Желтухин, И.К. Некрасов [и др.] // Физика и химия обработки материалов. - 2024. - № 1. - С. 30-40.	ru_RU
dc.identifier.uri	https://repository.kpfu.ru/?p_id=304995	ru_RU
dc.description.abstract	Физика и химия обработки материалов	ru_RU
dc.description.abstract	В работе представлено физическое описание формирования слоя положительного заряда вокруг объекта исследования при обработке в высокочастотном ёмкостном (ВЧЕ) разряде, вследствие чего возникает направленный поток низкоэнергетических ионов, бомбардирующих поверхность модифицируемого изделия. С помощью голографических измерений продемонстрировано наличие слоя, отличающегося от плазмы ВЧЕ разряда, вокруг обрабатываемого тела. Оптимальным методом измерений был признан метод перезаписи голограмм, суть которого состояла в последовательной регистрации голограмм с использованием восстановленных волн с предыдущей голограммы, благодаря чему коэффициент чувствительности измерений увеличивается. Представлено теоретическое обоснование голографических измерений, а также исследовано влияние потенциалов плазмы, энергий ионов и плотности ионного тока на поверхность обрабатываемого тела. Детально описаны методология экспериментов и измерительное оборудование.	ru_RU
dc.language.iso	ru	ru_RU
dc.subject	слой положительного заряда (СПЗ)	ru_RU
dc.subject	поток низкоэнергетических ионов	ru_RU
dc.subject	высокочастотный ёмкостной (ВЧЕ) разряд	ru_RU
dc.subject	плазменная обработка	ru_RU
dc.title	Особенности формирования слоя положительного заряда при модификации изделий в струе высокочастотного ёмкостного разряда в условиях динамического вакуума	ru_RU
dc.type	Статьи в российских журналах и сборниках	ru_RU