КФУ. Карточка публикации. Моделирование течения нейтральной компоненты ВЧ-плазмы в асимметричной вакуумной камере в диапазонах чисел кнудсена 0,3 ≤ Kn ≤ 3 для несущего газа

RUS

- EN
- 中文
- ES

МОДЕЛИРОВАНИЕ ТЕЧЕНИЯ НЕЙТРАЛЬНОЙ КОМПОНЕНТЫ ВЧ-ПЛАЗМЫ В АСИММЕТРИЧНОЙ ВАКУУМНОЙ КАМЕРЕ В ДИАПАЗОНАХ ЧИСЕЛ КНУДСЕНА 0,3 ≤ KN ≤ 3 ДЛЯ НЕСУЩЕГО ГАЗА

Форма представления

Статьи в российских журналах и сборниках

Год публикации

2015

Язык

русский

Авторы, сотрудники КФУ

Шемахин Александр Юрьевич, автор

Другие авторы

Желтухин Виктор Семенович, автор

Худайбергенов Гамзат Жапарович, автор

Библиографическое описание на языке оригинала

Желтухин В. С., Худайбергенов Г. Ж., Шемахин А. Ю. Моделирование течения нейтральной компоненты ВЧ-плазмы в асимметричной вакуумной камере в диапазонах чисел кнудсена 0,3 ≤ Kn ≤ 3 для несущего газа // Вестник ОмГУ. - 2015. - №2 (76). - С. 30-34.

Ключевые слова

аргон-силановая плазма, тлеющий разряд, высокочастотный разряд, осаждение тонких пленок, тонкие пленки аморфного кремния, плазменные струи, математическое моделирование, статистическое моделирование

Название журнала

Вестник Омского университета

Ссылка для РПД

http://dspace.kpfu.ru/xmlui/bitstream/handle/net/27434/VestnikOmGU2015.pdf?sequence=1&isAllowed=y

Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на эту карточку

https://repository.kpfu.ru/?p_id=113771

Файлы ресурса

Название файла	Размер (Мб)	Формат
VestnikOmGU2015.pdf	0,65	pdf	посмотреть / скачать

Полная запись метаданных

Поле DC	Значение	Язык
dc.contributor.author	Шемахин Александр Юрьевич	ru_RU
dc.contributor.author	Желтухин Виктор Семенович	ru_RU
dc.contributor.author	Худайбергенов Гамзат Жапарович	ru_RU
dc.date.accessioned	2015-01-01T00:00:00Z	ru_RU
dc.date.available	2015-01-01T00:00:00Z	ru_RU
dc.date.issued	2015	ru_RU
dc.identifier.citation	Желтухин В. С., Худайбергенов Г. Ж., Шемахин А. Ю. Моделирование течения нейтральной компоненты ВЧ-плазмы в асимметричной вакуумной камере в диапазонах чисел кнудсена 0,3 ≤ Kn ≤ 3 для несущего газа // Вестник ОмГУ. - 2015. - №2 (76). - С. 30-34.	ru_RU
dc.identifier.uri	https://repository.kpfu.ru/?p_id=113771	ru_RU
dc.description.abstract	Вестник Омского университета	ru_RU
dc.language.iso	ru	ru_RU
dc.subject	аргон-силановая плазма	ru_RU
dc.subject	тлеющий разряд	ru_RU
dc.subject	высокочастотный разряд	ru_RU
dc.subject	осаждение тонких пленок	ru_RU
dc.subject	тонкие пленки аморфного кремния	ru_RU
dc.subject	плазменные струи	ru_RU
dc.subject	математическое моделирование	ru_RU
dc.subject	статистическое моделирование	ru_RU
dc.title	Моделирование течения нейтральной компоненты ВЧ-плазмы в асимметричной вакуумной камере в диапазонах чисел кнудсена 0,3 ≤ Kn ≤ 3 для несущего газа	ru_RU
dc.type	Статьи в российских журналах и сборниках	ru_RU