Казанский (Приволжский) федеральный университет, КФУ
КАЗАНСКИЙ
ФЕДЕРАЛЬНЫЙ УНИВЕРСИТЕТ
 
PULSED LASER ANNEALING OF HIGH-DOSE AG+-ION IMPLANTED SI LAYER
Форма представленияСтатьи в зарубежных журналах и сборниках
Год публикации2017
Языканглийский
  • Осин Юрий Николаевич, автор
  • Степанов Андрей Львович, автор
  • Batalov R. I., автор
  • Валеев В. Ф., автор
  • Ивлеев Г. , автор
  • Нуждин В. И., автор
  • Воробьев Вячеслав Валерьевич, автор
  • Библиографическое описание на языке оригинала R I Batalov Pulsed laser annealing of high-dose Ag+-ion implanted Si layer / R I Batalov, V I Nuzhdin, V F Valeev, V V Vorobev, Yu N Osin, G D Ivlev and A L Stepanov// Journal of Physics D: Applied Physics, Volume 51, Number 1, -2017
    Аннотация Journal of Physics D: Applied Physics
    Ключевые слова silicon, silver nanoparticles, ion implantation, pulsed laser annealing, melting, crystallization, plasmon resonance
    Название журнала Journal of Physics D: Applied Physics
    Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на эту карточку https://repository.kpfu.ru/?p_id=169470

    Полная запись метаданных