КФУ. Карточка публикации. Способ нанесения покрытий с помощью высокочастотной безэлектродной плазмы

КАЗАНСКИЙ
ФЕДЕРАЛЬНЫЙ УНИВЕРСИТЕТ

RUS

- EN
- 中文
- ES

СПОСОБ НАНЕСЕНИЯ ПОКРЫТИЙ С ПОМОЩЬЮ ВЫСОКОЧАСТОТНОЙ БЕЗЭЛЕКТРОДНОЙ ПЛАЗМЫ

Форма представления

Российские патенты

Год публикации

1977

Язык

русский

Авторы, сотрудники КФУ

Шарифуллин Саид Насибуллович, автор

Другие авторы

Гайнутдинов Ильдус Саляхович, автор

Даутоов Ильдар Галиевич, автор

Библиографическое описание на языке оригинала

Авт.свид. №551997 от 29.04.1976. Способ нанесения покрытий с помощью высокочастотной безэлектродной плазмы /И.С. Гайнутдинов, И.Г. Даутов, Г.Ю. Даутов, Х.М. Шавалиев, С.Н. Шарифуллин //Бюллетень изобретений, 1977. –№ 11.

Аннотация

Изобретен способ нанесения покрытий на атомарном уровне распылением стержневого материала в сгустке высокочастотной безэлектродной плазмы и транспортировкой распыленных частиц плазменной струей на поверхность подложки. Распыление происходит при давлениях в диапазоне 1-0,1 мм рт. ст.

Ключевые слова

низкое давление среды, ВЧИ плазмотрон, плазменная струя, подложка, распыление, покрытие, стержневой материал

Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на эту карточку

https://repository.kpfu.ru/?p_id=172136

Полная запись метаданных

Поле DC	Значение	Язык
dc.contributor.author	Шарифуллин Саид Насибуллович	ru_RU
dc.contributor.author	Гайнутдинов Ильдус Саляхович	ru_RU
dc.contributor.author	Даутоов Ильдар Галиевич	ru_RU
dc.date.accessioned	1977-01-01T00:00:00Z	ru_RU
dc.date.available	1977-01-01T00:00:00Z	ru_RU
dc.date.issued	1977	ru_RU
dc.identifier.citation	Авт.свид. №551997 от 29.04.1976. Способ нанесения покрытий с помощью высокочастотной безэлектродной плазмы /И.С. Гайнутдинов, И.Г. Даутов, Г.Ю. Даутов, Х.М. Шавалиев, С.Н. Шарифуллин //Бюллетень изобретений, 1977. –№ 11.	ru_RU
dc.identifier.uri	https://repository.kpfu.ru/?p_id=172136	ru_RU
dc.description.abstract	Изобретен способ нанесения покрытий на атомарном уровне распылением стержневого материала в сгустке высокочастотной безэлектродной плазмы и транспортировкой распыленных частиц плазменной струей на поверхность подложки. Распыление происходит при давлениях в диапазоне 1-0,1 мм рт. ст.	ru_RU
dc.language.iso	ru	ru_RU
dc.subject	низкое давление среды	ru_RU
dc.subject	ВЧИ плазмотрон	ru_RU
dc.subject	плазменная струя	ru_RU
dc.subject	подложка	ru_RU
dc.subject	распыление	ru_RU
dc.subject	покрытие	ru_RU
dc.subject	стержневой материал	ru_RU
dc.title	Способ нанесения покрытий с помощью высокочастотной безэлектродной плазмы	ru_RU
dc.type	Российские патенты	ru_RU