КФУ. Карточка публикации. Microscopic Examination of the Silicon Surface Subjected to High-Dose Silver Implantation

КАЗАНСКИЙ
ФЕДЕРАЛЬНЫЙ УНИВЕРСИТЕТ

RUS

- EN
- 中文
- ES

MICROSCOPIC EXAMINATION OF THE SILICON SURFACE SUBJECTED TO HIGH-DOSE SILVER IMPLANTATION

Форма представления

Статьи в зарубежных журналах и сборниках

Год публикации

2019

Язык

английский

Авторы, сотрудники КФУ

Осин Юрий Николаевич, автор

Рогов Алексей Михайлович, автор

Библиографическое описание на языке оригинала

Vorobev V.V, Rogov A.M, Osin Y.N, Microscopic Examination of the Silicon Surface Subjected to High-Dose Silver Implantation//Technical Physics. - 2019. - Vol.64, Is.2. - P.195-202.

Ключевые слова

Silicon Surface, Silver Implantation, Implantation

Название журнала

Technical Physics

URL

https://www.scopus.com/inward/record.uri?eid=2-s2.0-85065414202&doi=10.1134%2fS1063784219020270&partnerID=40&md5=e8ba2f1c0afc1d5f71295deb33b422c1

Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на эту карточку

https://repository.kpfu.ru/?p_id=202361

Полная запись метаданных

Поле DC	Значение	Язык
dc.contributor.author	Осин Юрий Николаевич	ru_RU
dc.contributor.author	Рогов Алексей Михайлович	ru_RU
dc.date.accessioned	2019-01-01T00:00:00Z	ru_RU
dc.date.available	2019-01-01T00:00:00Z	ru_RU
dc.date.issued	2019	ru_RU
dc.identifier.citation	Vorobev V.V, Rogov A.M, Osin Y.N, Microscopic Examination of the Silicon Surface Subjected to High-Dose Silver Implantation//Technical Physics. - 2019. - Vol.64, Is.2. - P.195-202.	ru_RU
dc.identifier.uri	https://repository.kpfu.ru/?p_id=202361	ru_RU
dc.description.abstract	Technical Physics	ru_RU
dc.language.iso	ru	ru_RU
dc.subject	Silicon Surface	ru_RU
dc.subject	Silver Implantation	ru_RU
dc.subject	Implantation	ru_RU
dc.title	Microscopic Examination of the Silicon Surface Subjected to High-Dose Silver Implantation	ru_RU
dc.type	Статьи в зарубежных журналах и сборниках	ru_RU