Казанский (Приволжский) федеральный университет, КФУ
КАЗАНСКИЙ
ФЕДЕРАЛЬНЫЙ УНИВЕРСИТЕТ
 
PULSE ION ANNEALING OF SILICON LAYERS WITH SILVER NANOPARTICLES FORMED BY ION IMPLANTATION
Форма представленияСтатьи в зарубежных журналах и сборниках
Год публикации2020
Языканглийский
  • Рогов Алексей Михайлович, автор
  • Библиографическое описание на языке оригинала Stepanov A.L, Batalov R.I, Bayazitov R.M, Pulse ion annealing of silicon layers with silver nanoparticles formed by ion implantation//Vacuum. - 2020. - Vol.182, Is.. - Art. № 109724.
    Ключевые слова semiconductors, microscopy, ion implantation
    Название журнала Vacuum
    URL https://www.scopus.com/inward/record.uri?eid=2-s2.0-85089943862&doi=10.1016%2fj.vacuum.2020.109724&partnerID=40&md5=78e3028b2e3eaaadab97e497eae13dca
    Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на эту карточку https://repository.kpfu.ru/?p_id=242465

    Полная запись метаданных