Форма представления | Статьи в зарубежных журналах и сборниках |
Год публикации | 2020 |
Язык | английский |
|
Рогов Алексей Михайлович, автор
|
Библиографическое описание на языке оригинала |
Stepanov A.L, Batalov R.I, Bayazitov R.M, Pulse ion annealing of silicon layers with silver nanoparticles formed by ion implantation//Vacuum. - 2020. - Vol.182, Is.. - Art. № 109724. |
Ключевые слова |
semiconductors, microscopy, ion implantation |
Название журнала |
Vacuum
|
URL |
https://www.scopus.com/inward/record.uri?eid=2-s2.0-85089943862&doi=10.1016%2fj.vacuum.2020.109724&partnerID=40&md5=78e3028b2e3eaaadab97e497eae13dca |
Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на эту карточку |
https://repository.kpfu.ru/?p_id=242465 |
Полная запись метаданных |
Поле DC |
Значение |
Язык |
dc.contributor.author |
Рогов Алексей Михайлович |
ru_RU |
dc.date.accessioned |
2020-01-01T00:00:00Z |
ru_RU |
dc.date.available |
2020-01-01T00:00:00Z |
ru_RU |
dc.date.issued |
2020 |
ru_RU |
dc.identifier.citation |
Stepanov A.L, Batalov R.I, Bayazitov R.M, Pulse ion annealing of silicon layers with silver nanoparticles formed by ion implantation//Vacuum. - 2020. - Vol.182, Is.. - Art. № 109724. |
ru_RU |
dc.identifier.uri |
https://repository.kpfu.ru/?p_id=242465 |
ru_RU |
dc.description.abstract |
Vacuum |
ru_RU |
dc.language.iso |
ru |
ru_RU |
dc.subject |
semiconductors |
ru_RU |
dc.subject |
microscopy |
ru_RU |
dc.subject |
ion implantation |
ru_RU |
dc.title |
Pulse ion annealing of silicon layers with silver nanoparticles formed by ion implantation |
ru_RU |
dc.type |
Статьи в зарубежных журналах и сборниках |
ru_RU |
|