| Форма представления | Статьи в зарубежных журналах и сборниках |
| Год публикации | 2020 |
| Язык | английский |
|
Рогов Алексей Михайлович, автор
|
| Библиографическое описание на языке оригинала |
Vorob?ev V.V, Rogov A.M, Nuzhdin V.I, Sputtering of Silicon Surface during Low-Energy High-Dose Implantation with Silver Ions//Technical Physics. - 2020. - Vol.65, Is.7. - P.1156-1162. |
| Ключевые слова |
semiconductors, microscopy, ion implantation |
| Название журнала |
Technical Physics
|
| URL |
https://www.scopus.com/inward/record.uri?eid=2-s2.0-85089092367&doi=10.1134%2fS1063784220070269&partnerID=40&md5=2f7b22a91a1a3cb9940128b2bdf32c66 |
| Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на эту карточку |
https://repository.kpfu.ru/?p_id=242469 |
Полная запись метаданных  |
| Поле DC |
Значение |
Язык |
| dc.contributor.author |
Рогов Алексей Михайлович |
ru_RU |
| dc.date.accessioned |
2020-01-01T00:00:00Z |
ru_RU |
| dc.date.available |
2020-01-01T00:00:00Z |
ru_RU |
| dc.date.issued |
2020 |
ru_RU |
| dc.identifier.citation |
Vorob?ev V.V, Rogov A.M, Nuzhdin V.I, Sputtering of Silicon Surface during Low-Energy High-Dose Implantation with Silver Ions//Technical Physics. - 2020. - Vol.65, Is.7. - P.1156-1162. |
ru_RU |
| dc.identifier.uri |
https://repository.kpfu.ru/?p_id=242469 |
ru_RU |
| dc.description.abstract |
Technical Physics |
ru_RU |
| dc.language.iso |
ru |
ru_RU |
| dc.subject |
semiconductors |
ru_RU |
| dc.subject |
microscopy |
ru_RU |
| dc.subject |
ion implantation |
ru_RU |
| dc.title |
Sputtering of Silicon Surface during Low-Energy High-Dose Implantation with Silver Ions |
ru_RU |
| dc.type |
Статьи в зарубежных журналах и сборниках |
ru_RU |
|
EN 
中文 
ES 
Карта сайта
