КФУ. Карточка публикации. РАСПЫЛЕНИЕ ПОВЕРХНОСТИ КРЕМНИЯ ПРИ НИЗКОЭНЕРГЕТИЧЕСКОЙ ВЫСОКОДОЗОВОЙ ИМПЛАНТАЦИИ ИОНАМИ СЕРЕБРА

КАЗАНСКИЙ
ФЕДЕРАЛЬНЫЙ УНИВЕРСИТЕТ

RUS

- EN
- 中文
- ES

РАСПЫЛЕНИЕ ПОВЕРХНОСТИ КРЕМНИЯ ПРИ НИЗКОЭНЕРГЕТИЧЕСКОЙ ВЫСОКОДОЗОВОЙ ИМПЛАНТАЦИИ ИОНАМИ СЕРЕБРА

Форма представления

Статьи в российских журналах и сборниках

Год публикации

2020

Язык

русский

Авторы, сотрудники КФУ

Рогов Алексей Михайлович, автор

Библиографическое описание на языке оригинала

Воробьев В.В. РАСПЫЛЕНИЕ ПОВЕРХНОСТИ КРЕМНИЯ ПРИ НИЗКОЭНЕРГЕТИЧЕСКОЙ ВЫСОКОДОЗОВОЙ ИМПЛАНТАЦИИ ИОНАМИ СЕРЕБРА / В.В. Воробьев, А.М.Рогов, А.Л. Степанов // журнал технической физики. - 2020. -№90. - С. 1202-1208.

Аннотация

Журнал технической физики

Ключевые слова

SPUTTERING OF SILICON, LOW-ENERGY ION IMPLANTATION, SILVER IONS

Название журнала

Журнал технической физики

Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на эту карточку

https://repository.kpfu.ru/?p_id=242478

Полная запись метаданных

Поле DC	Значение	Язык
dc.contributor.author	Рогов Алексей Михайлович	ru_RU
dc.date.accessioned	2020-01-01T00:00:00Z	ru_RU
dc.date.available	2020-01-01T00:00:00Z	ru_RU
dc.date.issued	2020	ru_RU
dc.identifier.citation	Воробьев В.В. РАСПЫЛЕНИЕ ПОВЕРХНОСТИ КРЕМНИЯ ПРИ НИЗКОЭНЕРГЕТИЧЕСКОЙ ВЫСОКОДОЗОВОЙ ИМПЛАНТАЦИИ ИОНАМИ СЕРЕБРА / В.В. Воробьев, А.М.Рогов, А.Л. Степанов // журнал технической физики. - 2020. -№90. - С. 1202-1208.	ru_RU
dc.identifier.uri	https://repository.kpfu.ru/?p_id=242478	ru_RU
dc.description.abstract	Журнал технической физики	ru_RU
dc.language.iso	ru	ru_RU
dc.subject	SPUTTERING OF SILICON	ru_RU
dc.subject	LOW-ENERGY ION IMPLANTATION	ru_RU
dc.subject	SILVER IONS	ru_RU
dc.title	РАСПЫЛЕНИЕ ПОВЕРХНОСТИ КРЕМНИЯ ПРИ НИЗКОЭНЕРГЕТИЧЕСКОЙ ВЫСОКОДОЗОВОЙ ИМПЛАНТАЦИИ ИОНАМИ СЕРЕБРА	ru_RU
dc.type	Статьи в российских журналах и сборниках	ru_RU