КФУ. Карточка публикации. Effect of substrate rotation on the growth behavior and topography of the Ti film deposited over a large area using DC magnetron sputtering with a rectangular target: Simulation approach and experiment

RUS

- EN
- 中文
- ES

EFFECT OF SUBSTRATE ROTATION ON THE GROWTH BEHAVIOR AND TOPOGRAPHY OF THE TI FILM DEPOSITED OVER A LARGE AREA USING DC MAGNETRON SPUTTERING WITH A RECTANGULAR TARGET: SIMULATION APPROACH AND EXPERIMENT

Форма представления

Статьи в зарубежных журналах и сборниках

Год публикации

2024

Язык

английский

Авторы, сотрудники КФУ

Кашапов Наиль Фаикович, автор

Лучкин Александр Григорьевич, автор

Библиографическое описание на языке оригинала

Ayachi Omar A, Ayachi Amar C, Kashapov N.F, Effect of substrate rotation on the growth behavior and topography of the Ti film deposited over a large area using DC magnetron sputtering with a rectangular target: Simulation approach and experiment//Materials Today Communications. - 2024. - Vol.41, Is.. - Art. №110895.

Ключевые слова

Simulation approach and experiment,

Название журнала

Materials Today Communications

URL

https://www.scopus.com/inward/record.uri?eid=2-s2.0-85208260058&doi=10.1016%2fj.mtcomm.2024.110895&partnerID=40&md5=d1515ab7beb59a4f652f6b9fbe760d9a

Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на эту карточку

https://repository.kpfu.ru/?p_id=308898

Полная запись метаданных

Поле DC	Значение	Язык
dc.contributor.author	Кашапов Наиль Фаикович	ru_RU
dc.contributor.author	Лучкин Александр Григорьевич	ru_RU
dc.date.accessioned	2024-01-01T00:00:00Z	ru_RU
dc.date.available	2024-01-01T00:00:00Z	ru_RU
dc.date.issued	2024	ru_RU
dc.identifier.citation	Ayachi Omar A, Ayachi Amar C, Kashapov N.F, Effect of substrate rotation on the growth behavior and topography of the Ti film deposited over a large area using DC magnetron sputtering with a rectangular target: Simulation approach and experiment//Materials Today Communications. - 2024. - Vol.41, Is.. - Art. №110895.	ru_RU
dc.identifier.uri	https://repository.kpfu.ru/?p_id=308898	ru_RU
dc.description.abstract	Materials Today Communications	ru_RU
dc.language.iso	ru	ru_RU
dc.subject	Simulation approach and experiment	ru_RU
dc.subject		ru_RU
dc.title	Effect of substrate rotation on the growth behavior and topography of the Ti film deposited over a large area using DC magnetron sputtering with a rectangular target: Simulation approach and experiment	ru_RU
dc.type	Статьи в зарубежных журналах и сборниках	ru_RU