Казанский (Приволжский) федеральный университет, КФУ
КАЗАНСКИЙ
ФЕДЕРАЛЬНЫЙ УНИВЕРСИТЕТ
 
FORMATION OF NANOPOROUS SI AND GE LAYERS BY LOW-ENERGY AG-ION IMPLANTATION
Форма представленияСтатьи в зарубежных журналах и сборниках
Год публикации2014
  • Воробьев Вячеслав Валерьевич, автор
  • Осин Юрий Николаевич, автор
  • Степанов Андрей Львович, автор
  • Другие авторы Ермаков; Валеев; Нуждин
  • Воробьев Вячеслав Валерьевич, автор
  • Библиографическое описание на языке оригинала A. L. Stepanov, V. V. Vorobev, Y. N. Osin, M.A. Ermakov, V. F. Valeev, V. I. Nuzhdin6Formation of Nanoporous Si and Ge Layers by Low-Energy Ag+-Ion Implantation// Scientific Journal of Microelectronics, July 2014, Vol. 4 Iss. 3, PP. 11-17
    Аннотация Scientific Journal of Microelectronics
    Ключевые слова Nanoporous Silicon and Germanium; Silver Nanoparticles; Ion Implantation
    Название журнала Scientific Journal of Microelectronics
    Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на эту карточку https://repository.kpfu.ru/?p_id=92387

    Полная запись метаданных