KFU. Card publication. Моделирование течения нейтральной компоненты ВЧ-плазмы в асимметричной вакуумной камере в диапазонах чисел кнудсена 0,3 ≤ Kn ≤ 3 для несущего газа

- RUS
- 中文
- ES

МОДЕЛИРОВАНИЕ ТЕЧЕНИЯ НЕЙТРАЛЬНОЙ КОМПОНЕНТЫ ВЧ-ПЛАЗМЫ В АСИММЕТРИЧНОЙ ВАКУУМНОЙ КАМЕРЕ В ДИАПАЗОНАХ ЧИСЕЛ КНУДСЕНА 0,3 ≤ KN ≤ 3 ДЛЯ НЕСУЩЕГО ГАЗА

Form of presentation

Articles in Russian journals and collections

Year of publication

2015

Язык

русский

Authors, employees of KFU

Shemakhin Aleksandr Yurevich, author

Other authors

Zheltukhin Viktor Semenovich, author

Khudaybergenov Gamzat Zhaparovich, author

Bibliographic description in the original language

Zheltukhin V. S., Khudaybergenov G. Zh., Shemakhin A. Yu. Modelirovanie techeniya neytralnoy komponenty VCh-plazmy v asimmetrichnoy vakuumnoy kamere v diapazonakh chisel knudsena 0,3 ≤ Kn ≤ 3 dlya nesushhego gaza // Vestnik OmGU. - 2015. - №2 (76). - S. 30-34.

Keywords

аргон-силановая плазма, тлеющий разряд, высокочастотный разряд, осаждение тонких пленок, тонкие пленки аморфного кремния, плазменные струи, математическое моделирование, статистическое моделирование

The name of the journal

Вестник Омского университета

On-line resource for training course

http://dspace.kpfu.ru/xmlui/bitstream/handle/net/27434/VestnikOmGU2015.pdf?sequence=1&isAllowed=y

Please use this ID to quote from or refer to the card

https://repository.kpfu.ru/eng/?p_id=113771&p_lang=2

Resource files

File name	Size (MB)	Format
VestnikOmGU2015.pdf	0,65	pdf	show / download

Full metadata record

Field DC	Value	Language
dc.contributor.author	Shemakhin Aleksandr Yurevich	ru_RU
dc.contributor.author	Zheltukhin Viktor Semenovich	ru_RU
dc.contributor.author	Khudaybergenov Gamzat Zhaparovich	ru_RU
dc.date.accessioned	2015-01-01T00:00:00Z	ru_RU
dc.date.available	2015-01-01T00:00:00Z	ru_RU
dc.date.issued	2015	ru_RU
dc.identifier.citation	Желтухин В. С., Худайбергенов Г. Ж., Шемахин А. Ю. Моделирование течения нейтральной компоненты ВЧ-плазмы в асимметричной вакуумной камере в диапазонах чисел кнудсена 0,3 ≤ Kn ≤ 3 для несущего газа // Вестник ОмГУ. - 2015. - №2 (76). - С. 30-34.	ru_RU
dc.identifier.uri	https://repository.kpfu.ru/eng/?p_id=113771&p_lang=2	ru_RU
dc.description.abstract	Вестник Омского университета	ru_RU
dc.language.iso	ru	ru_RU
dc.subject	аргон-силановая плазма	ru_RU
dc.subject	тлеющий разряд	ru_RU
dc.subject	высокочастотный разряд	ru_RU
dc.subject	осаждение тонких пленок	ru_RU
dc.subject	тонкие пленки аморфного кремния	ru_RU
dc.subject	плазменные струи	ru_RU
dc.subject	математическое моделирование	ru_RU
dc.subject	статистическое моделирование	ru_RU
dc.title	Моделирование течения нейтральной компоненты ВЧ-плазмы в асимметричной вакуумной камере в диапазонах чисел кнудсена 0,3 ≤ Kn ≤ 3 для несущего газа	ru_RU
dc.type	Articles in Russian journals and collections	ru_RU