KFU. Card publication. Способ нанесения покрытий с помощью высокочастотной безэлектродной плазмы

KAZAN
FEDERAL UNIVERSITY

- RUS
- 中文
- ES

СПОСОБ НАНЕСЕНИЯ ПОКРЫТИЙ С ПОМОЩЬЮ ВЫСОКОЧАСТОТНОЙ БЕЗЭЛЕКТРОДНОЙ ПЛАЗМЫ

Form of presentation

Russian patents

Year of publication

1977

Язык

русский

Authors, employees of KFU

Sharifullin Said Nasibullovich, author

Other authors

Gaynutdinov Ildus Salyakhovich, author

Dautoov Ildar Galievich, author

Bibliographic description in the original language

Avt.svid. №551997 ot 29.04.1976. Sposob naneseniya pokrytiy s pomoshhyu vysokochastotnoy bezelektrodnoy plazmy /I.S. Gaynutdinov, I.G. Dautov, G.Yu. Dautov, Kh.M. Shavaliev, S.N. Sharifullin //Byulleten izobreteniy, 1977. –№ 11.

Annotation

Изобретен способ нанесения покрытий на атомарном уровне распылением стержневого материала в сгустке высокочастотной безэлектродной плазмы и транспортировкой распыленных частиц плазменной струей на поверхность подложки. Распыление происходит при давлениях в диапазоне 1-0,1 мм рт. ст.

Keywords

низкое давление среды, ВЧИ плазмотрон, плазменная струя, подложка, распыление, покрытие, стержневой материал

Please use this ID to quote from or refer to the card

https://repository.kpfu.ru/eng/?p_id=172136&p_lang=2

Full metadata record

Field DC	Value	Language
dc.contributor.author	Sharifullin Said Nasibullovich	ru_RU
dc.contributor.author	Gaynutdinov Ildus Salyakhovich	ru_RU
dc.contributor.author	Dautoov Ildar Galievich	ru_RU
dc.date.accessioned	1977-01-01T00:00:00Z	ru_RU
dc.date.available	1977-01-01T00:00:00Z	ru_RU
dc.date.issued	1977	ru_RU
dc.identifier.citation	Авт.свид. №551997 от 29.04.1976. Способ нанесения покрытий с помощью высокочастотной безэлектродной плазмы /И.С. Гайнутдинов, И.Г. Даутов, Г.Ю. Даутов, Х.М. Шавалиев, С.Н. Шарифуллин //Бюллетень изобретений, 1977. –№ 11.	ru_RU
dc.identifier.uri	https://repository.kpfu.ru/eng/?p_id=172136&p_lang=2	ru_RU
dc.description.abstract	Изобретен способ нанесения покрытий на атомарном уровне распылением стержневого материала в сгустке высокочастотной безэлектродной плазмы и транспортировкой распыленных частиц плазменной струей на поверхность подложки. Распыление происходит при давлениях в диапазоне 1-0,1 мм рт. ст.	ru_RU
dc.language.iso	ru	ru_RU
dc.subject	низкое давление среды	ru_RU
dc.subject	ВЧИ плазмотрон	ru_RU
dc.subject	плазменная струя	ru_RU
dc.subject	подложка	ru_RU
dc.subject	распыление	ru_RU
dc.subject	покрытие	ru_RU
dc.subject	стержневой материал	ru_RU
dc.title	Способ нанесения покрытий с помощью высокочастотной безэлектродной плазмы	ru_RU
dc.type	Russian patents	ru_RU