KFU. Card publication. РАСПЫЛЕНИЕ ПОВЕРХНОСТИ КРЕМНИЯ ПРИ НИЗКОЭНЕРГЕТИЧЕСКОЙ ВЫСОКОДОЗОВОЙ ИМПЛАНТАЦИИ ИОНАМИ СЕРЕБРА

KAZAN
FEDERAL UNIVERSITY

- RUS
- 中文
- ES

РАСПЫЛЕНИЕ ПОВЕРХНОСТИ КРЕМНИЯ ПРИ НИЗКОЭНЕРГЕТИЧЕСКОЙ ВЫСОКОДОЗОВОЙ ИМПЛАНТАЦИИ ИОНАМИ СЕРЕБРА

Form of presentation

Articles in Russian journals and collections

Year of publication

2020

Язык

русский

Authors, employees of KFU

Rogov Aleksey Mikhaylovich, author

Bibliographic description in the original language

Vorobev V.V. RASPYLENIE POVERKhNOSTI KREMNIYa PRI NIZKOENERGETIChESKOY VYSOKODOZOVOY IMPLANTACII IONAMI SEREBRA / V.V. Vorobev, A.M.Rogov, A.L. Stepanov // zhurnal tekhnicheskoy fiziki. - 2020. -№90. - S. 1202-1208.

Annotation

Журнал технической физики

Keywords

SPUTTERING OF SILICON, LOW-ENERGY ION IMPLANTATION, SILVER IONS

The name of the journal

Журнал технической физики

Please use this ID to quote from or refer to the card

https://repository.kpfu.ru/eng/?p_id=242478&p_lang=2

Full metadata record

Field DC	Value	Language
dc.contributor.author	Rogov Aleksey Mikhaylovich	ru_RU
dc.date.accessioned	2020-01-01T00:00:00Z	ru_RU
dc.date.available	2020-01-01T00:00:00Z	ru_RU
dc.date.issued	2020	ru_RU
dc.identifier.citation	Воробьев В.В. РАСПЫЛЕНИЕ ПОВЕРХНОСТИ КРЕМНИЯ ПРИ НИЗКОЭНЕРГЕТИЧЕСКОЙ ВЫСОКОДОЗОВОЙ ИМПЛАНТАЦИИ ИОНАМИ СЕРЕБРА / В.В. Воробьев, А.М.Рогов, А.Л. Степанов // журнал технической физики. - 2020. -№90. - С. 1202-1208.	ru_RU
dc.identifier.uri	https://repository.kpfu.ru/eng/?p_id=242478&p_lang=2	ru_RU
dc.description.abstract	Журнал технической физики	ru_RU
dc.language.iso	ru	ru_RU
dc.subject	SPUTTERING OF SILICON	ru_RU
dc.subject	LOW-ENERGY ION IMPLANTATION	ru_RU
dc.subject	SILVER IONS	ru_RU
dc.title	РАСПЫЛЕНИЕ ПОВЕРХНОСТИ КРЕМНИЯ ПРИ НИЗКОЭНЕРГЕТИЧЕСКОЙ ВЫСОКОДОЗОВОЙ ИМПЛАНТАЦИИ ИОНАМИ СЕРЕБРА	ru_RU
dc.type	Articles in Russian journals and collections	ru_RU